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時(shí)間:2014-05-21 10:06:33
作者:世邦機(jī)器
改性劑種類 如前所述,選用不同種類的改性劑對(duì)膨潤(rùn)土進(jìn)行有機(jī)改性處理后,其性能各異。
作者利用不同類型的改性劑采用干法活化工藝將膨潤(rùn)土進(jìn)行活化處理。測(cè)定改性后膨潤(rùn)土在有機(jī)苯溶液中的分散性。三乙醇胺改性的膨潤(rùn)土在苯溶液中的分散性卓越。在通常情況下,在固體表面的吸附,一般C―H鏈越長(zhǎng),吸附越容易,有人對(duì)同系物(實(shí)際上也適用于同類表面活性劑)的臨界膠團(tuán)濃度(CMC),總結(jié)出如下經(jīng)驗(yàn)式:
LgCMC=A-Bn(4-5)
式中,A、B均為常數(shù);n為碳?xì)滏溨械奶荚訑?shù)。n增加,CMC相應(yīng)減小,溶液活性增強(qiáng),吸附更完全。如果活化劑的極性頭里面存在極性很強(qiáng)的破壞性基團(tuán),會(huì)影響膠團(tuán)的形成。如果碳?xì)滏溨杏兄ф溁蚱渌鶊F(tuán)時(shí),會(huì)降低B值,使CMC提高,溶液活性降低,因此在選用改性劑時(shí),應(yīng)選擇碳?xì)滏溳^長(zhǎng),而沒(méi)有分支結(jié)構(gòu)和基團(tuán),并且極性頭里不存在極性太強(qiáng)的破壞性基團(tuán)。
陳艷玲(1999)用十六烷基三甲基溴化銨(CTMAB)和十六烷基溴化吡啶(CPB)對(duì)膨潤(rùn)土進(jìn)行改性,它對(duì)于去除廢水中苯胺、苯酚、硝基苯等極性有機(jī)物效果較好,而對(duì)苯、甲苯、乙苯、二甲苯等苯系物的去除效果卻不理想。膨潤(rùn)土生產(chǎn)設(shè)備有很多種,膨潤(rùn)土雷蒙磨就是其中的一種。采用1631(十六烷基三甲基氯化銨)對(duì)膨潤(rùn)土改性,發(fā)現(xiàn)其對(duì)苯系物(BTEx)的吸附能力較強(qiáng),可用于去陳廢水中的苯系物。胡智榮分別用不同季銨鹽(SN、D16~18、D31和D36)對(duì)膨潤(rùn)土透露活化處理后獲得了黏度介于300~1000mPa?s的改性產(chǎn)品,見(jiàn)表4-18。但將以上兩種改性劑以不同比例復(fù)合對(duì)膨潤(rùn)土進(jìn)行有機(jī)活化發(fā)現(xiàn),復(fù)合物更能有效地降低表面活性劑溶液的CMC,提高溶液的表面活性,有利于有機(jī)反應(yīng)的進(jìn)行,可獲得黏度大于1500mPa?s的改性產(chǎn)品。
-END-
破碎機(jī)磨粉機(jī)制砂機(jī)洗砂機(jī)振動(dòng)篩移動(dòng)破碎站顎式破碎機(jī)圓錐式破碎機(jī)雷蒙磨粉機(jī)河卵石制砂機(jī)振動(dòng)給料機(jī)皮帶機(jī)
李永繡等(1998)用酸和稀土對(duì)玉山膨潤(rùn)土進(jìn)行了處理,對(duì)其酯催化活性進(jìn)行了研究。試驗(yàn)結(jié)果證明,酸和稀土均能使膨潤(rùn)土的酯催化活性得到大幅度提高。
對(duì)于膨潤(rùn)土與有機(jī)物反應(yīng)的研究,可追溯到20世紀(jì)40年代。早在1934年.Smith就對(duì)鈉基膨潤(rùn)土與有機(jī)銨離子(R―NH3+)的交換反應(yīng)進(jìn)行了創(chuàng)建研究,合成了一些有機(jī)膨潤(rùn)土。
陽(yáng)離子的相對(duì)濃度 當(dāng)Na+ 和$Ca2+的當(dāng)量濃度相等時(shí),平衡逆向移動(dòng),即以Ca2+的吸附為主,此時(shí)膨潤(rùn)土顯示鈣土的性質(zhì),但當(dāng)Na+當(dāng)量濃度高于Ca2+時(shí),平衡正向移動(dòng),鈣土中的Ca2+被溶液中Na+所置換而生成鈉基膨潤(rùn)土。
曾秀瓊等(2001)制備了單陽(yáng)離子改性膨潤(rùn)土(Na+-膨潤(rùn)土和A13 +-膨潤(rùn)土),羥基鋁膨潤(rùn)土、有機(jī)膨潤(rùn)土(不同量有機(jī)季銨鹽改性),進(jìn)行了7種改性膨潤(rùn)土與染料弱酸性深藍(lán)GR的吸附實(shí)驗(yàn),繪制了它們的等溫吸附線。
分別用765-770nm(鉀)和588- 590nm(鈉)的濾光片將鉀、鈉的輻射線分離出來(lái),投射于光電池(管)上產(chǎn)生光電流。其光電流的大小,取決于鉀,鈉在火焰中激發(fā)所產(chǎn)生的輻射線強(qiáng)度,而輻射線的強(qiáng)度與鉀、鈉的含量有關(guān)。
同時(shí),樣品的晶面間距d(001)也未增大,其相應(yīng)的(001)晶面衍射角也未見(jiàn)改變,由此可以斷定,硅溶膠與蒙脫石反應(yīng)時(shí)只改變了蒙脫石端面電荷性質(zhì),而未進(jìn)入蒙脫石層間。
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