高嶺土插層效果表征

時(shí)間：2014-05-08 09:50:19

作者：世邦機(jī)器

高嶺土插層效果表征

用X射線粉晶衍射、紅外光譜、熱分析和核磁共振可以對(duì)高嶺石/有機(jī)插層復(fù)合物的性能進(jìn)行表征。通過對(duì)這些數(shù)據(jù)的分析，可以確定高嶺石/有機(jī)插層復(fù)合物的層間距、插層率、熱穩(wěn)定性和分子結(jié)構(gòu)。

(1)X射線粉晶衍射:有機(jī)分子插入高嶺土加工工藝的的層間，對(duì)高嶺石的層間距會(huì)產(chǎn)生或多或少的影響，因此，XRD是檢測有機(jī)分子是否插入高嶺石層間的較好方法之一。通過對(duì)比有機(jī)小分子插入前后，高嶺石層間距的大小，就可以知道有機(jī)分子是否插入高嶺石的層間。高嶺石的層間距(strongasal spacing)為0.716nm，其層間域(interlayer spacing)為0.292nm。當(dāng)有機(jī)分子插入高嶺石的層間域后，使用先進(jìn)的高嶺土加工技術(shù)，引起層間域的膨脹，其層間距也相應(yīng)地增加，XRD的辦d001值可以直接反映出這種變化。插層復(fù)合物形成后，而d001=0.716nm的衍射峰變?nèi)酰S著插層物的不同代之以不同層間距的衍射峰。因此層間距變化是評(píng)價(jià)有機(jī)分子是否插入高嶺石層間的較直接的方法。

層間距的變化可以用于判斷有機(jī)分子是否插入高嶺石的層間，但卻不能表明插層作用的完全程度。瞿金蓉等(2003)利用X射線粉晶衍射和激光拉曼光譜實(shí)驗(yàn)分析高嶺石及其乙酸鉀插層物的結(jié)構(gòu)。從高嶺石/乙酸鉀插層復(fù)合物的X射線粉晶衍射分析可以清楚地看到，乙酸鉀已成功地插入高嶺石層間，使得高嶺石的d001由0.720nm增加到1.420nm，其插層率可達(dá)73%。